硅外延层和衬底是半导体制造过程中的两个重要组成部分。衬底是半导体芯片制造的基础,主要由单晶硅材料制成。硅外延层…
半导体
几种先进封装技术
在以人工智能、高性能计算为代表的新需求驱动下,先进封装应运而生,发展趋势是小型化、高集成度,历经直插型封装、表…
芯片是怎样被制造出来的?
硅要变成半导体芯片,需要经过晶圆制造、氧化、光刻、蚀刻、沉积和离子注入、金属布线、EDS 和封装等几个复杂的过…
什么是宽禁带半导体?
氮化镓和碳化硅同属于一类被称为宽禁带(wide-bandgap,WBG)半导体材料。价带的最高能量占用状态与导…
MEMS常用干法刻蚀设备结构及原理
干法刻蚀技术是一种在大气或真空条件下进行的刻蚀过程,通常使用气体中的离子或化学物质来去除材料表面的部分,通过掩…
2024年全球与台湾半导体产业展望
主要内容: ⚫全球关键发展议题扫描 ⚫前瞻全球与台湾半导体发展议题 ⚫剖析全球与台湾半导体竞合议题 ⚫全球与台…