纳米压印技术（Nanoimprint Lithography，NIL）是一种用于微纳电子结构转移的印刷复制技术，有的地方也叫 NIP 。它通过使用图案化的模板将微纳结构复制到待加工材料上。就像盖印章一样将图案压印到材料上，类似于我们说的压花工艺。
纳米压印技术之所以被开发出来，主要是因为它能够突破传统光刻技术在制造极小尺寸结构时遇到的分辨率限制。下面是纳米压印的工艺流程：模板制作：首先，需要制造一个带有所需微纳结构图案的模板。这通常通过电子束刻蚀、纳米压印光刻或其他高分辨率的微纳加工技术在硅或其他硬质衬底材料上实现。
涂覆光刻胶：在待加工的衬底（如硅片）表面均匀涂覆一层光刻胶等可变形材料。可变形材料的选择取决于所需的图案特征和后续的工艺要求。
压印：将涂覆了光刻胶的衬底与模板接触，并施加一定的压力。在热压印技术（Thermal NIL）中，这个过程可能还需要加热至特定温度以使聚合物软化。在光压印技术（UV-NIL）中，压印后会进行紫外光照射以固化光刻胶。
脱模和除光刻胶：通过紫外光照射、加热或其他方式使光刻胶固化，然后缓慢移除模板，此时光刻胶上已经形成了与模板相对应的微纳结构图案，再移除剩余的光刻胶，这通常通过化学或机械方法完成。
可以看出，纳米压印与光刻有很大的不同，它不是光学复制图形的工艺，而是将代替掩模板的模具通过压膜压在了可变形聚合物材料上，这跟我们制作月饼的方法有些类似。
与传统的光刻相比，如上面所说，纳米压印中的模具就相当于是掩模板，机械压模的工具与曝光机的光源作用相同，可变形材料与光刻胶类似。
虽然纳米压印技术具有高分辨率、低成本和高效率等优点，但它对模板的加工精度要求很高，目前模板加工主要依赖于光刻技术，尤其是对于纳米级结构的制造，这导致了压印模板的成本较高，另外对于某些材料，尤其是不透明材料，使用光纳米压印技术也存在限制。
还有，压印后的脱模过程可能会遇到困难，特别是当模板和材料之间的粘附力较强时。
因此，在半导体中全面使用此技术的可能性不太大，纳米压印还是有很长的路要走。
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